超低释气法拉第隔离器，XLO系列
LINOS®超低释气法拉第隔离器经过专门设计，可以显著减少敏感环境中的污染，使激光系统长时间保持洁净。其独特的无胶结构最大限度降低了潜在的挥发性有机化合物污染，与我们的低释气版本相比，释气量减少了一半，与标准隔离器相比最多减少了50倍。这使得该产品成为半导体制造、太空应用及高真空环境等严苛场景中的理想选择。
LINOS超低释气法拉第隔离器采用洁净设计，可保护敏感设备，从而提升系统性能并延长使用寿命。我们的隔离器提供卓越的光学性能，在指定波长下可实现≥30 dB的隔离度以及超过90%的透射率，确保了最佳的信号完整性和对激光器的有效保护。这些耐用的法拉第隔离器采用光学接触偏振片制造，具备高损伤阈值和长期光学稳定性；采用稀土磁铁以确保隔离性能稳定可靠。此外，该产品在设计上具备即用型灵活性，便于操作被阻挡光束，并配有安装支架，可轻松集成到各种激光系统中，还能根据需求提供定制化波长和规格。