高耐用性窗口

高耐用性窗口

埃赛力达提供具有卓越机械、化学和环境耐久性的高耐用性定制窗口,以应对波长至少193 nm的要求严苛的应用。借助我们专有的先进等离子源(APS)和离子束溅射(IBS)镀膜技术,这些高度耐用的窗口具有抗损坏性,可用于UV、VIS、NIR和红外波段。

作为第一家提供市售离子束溅射(IBS)薄层镀膜的公司,我们继续扩展我们的技术,以生产最高质量的薄膜,可在从深紫外(190 nm)到长波红外(14 um)波长的整个光谱范围内实现一系列功能。埃赛力达能够生产性能最高、损耗最低、最耐用的薄膜,这在全世界都无与伦比。

我们广泛的红外高耐久性窗口几乎可以采用任何基材材料定制,包括熔融石英、Si、Ge、ZnSe、ZnS、CaF2、MgF2、Cleartran和AMTIR。

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