多光谱成像窗口

多光谱成像窗口提供高透射率、出色的波前质量、低散射和绝佳的环境耐久性。这些窗口几乎可以采用任何基材材料进行定制，包括熔融石英、硅、锗、硒化锌、硫化锌、CaF2、MgF2、Cleartran和AMTIR。

在按照行业最高的性能和质量标准进行光学制造和抛光各种材料和几何形状方面，埃赛力达的能力举世闻名。借助包括主轴抛光、CNC抛光、金刚石车削和连续抛光在内的一系列工艺，埃赛力达拥有满足您最具挑战性的成像窗口需求的专业知识。

典型的光学涂层元件性能：

锗

波长	平均T	平均R	绝对T	绝对R
8.0-12.0 μm	≥97%	≤0.5%	≥93%	≤1%
7.5-13.5 μm	≥96%	≤1%	≥85%	≤4%

硅

波长	平均T	平均R	绝对T	绝对R
3.0-5.0 μm	≥98%	≤0.5%	≥94%	≤1.5%

ZnSe

波长	平均T	平均R	绝对T	绝对R
8.0-12.0 μm	≥98%	≤0.5%	≥96%	≤1%
7.5-13.5 μm	≥97%	≤0.5%	≥93%	≤1.5%
2.0-13.0 μm	≥93%	≤2.5%	≥83%	≤5.0%
7.5-14.0 μm	≥92%	≤2.5%	≥80%	≤6.0%

典型环境测试

典型的光学涂层元件性能：

锗

波长	平均T	平均R	绝对T	绝对R
8.0-12.0 μm	≥97%	≤0.5%	≥93%	≤1%
7.5-13.5 μm	≥96%	≤1%	≥85%	≤4%

硅

波长	平均T	平均R	绝对T	绝对R
3.0-5.0 μm	≥98%	≤0.5%	≥94%	≤1.5%

ZnSe

波长	平均T	平均R	绝对T	绝对R
8.0-12.0 μm	≥98%	≤0.5%	≥96%	≤1%
7.5-13.5 μm	≥97%	≤0.5%	≥93%	≤1.5%
2.0-13.0 μm	≥93%	≤2.5%	≥83%	≤5.0%
7.5-14.0 μm	≥92%	≤2.5%	≥80%	≤6.0%

典型环境测试

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