带镜座UV熔融石英平凹透镜,未镀膜
埃赛力达提供的LINOS®熔融石英平凹透镜具有多种焦距和直径规格,专为UV及大功率应用设计。我们仅采用来自可靠制造商的高品质材料,并严格控制公差,以确保卓越品质。每款透镜均可选择黑色阳极氧化铝刻字装框版本,或以未装框形式提供,以便灵活集成到定制系统中。
装框式平凹透镜采用高质量熔融石英制成,可与LINOS Microbench和Nanobench系统无缝集成。严格控制的焦距公差可确保系统集成的一致性以及可靠的光学性能。
我们的熔融石英平凹透镜专为控制光束发散而设计,可为要求严苛的UV和大功率应用提供精确的光学性能。凭借其高损伤阈值,未镀膜版本可适应宽波长范围,并提供优于标准光学玻璃的优异透射率。
我们提供ZEMAX文件,以简化光学设计和仿真流程。如需定制规格或大批量生产,我们的销售团队将竭诚为您提供符合您技术要求的专属报价方案。

注:f = 焦距(物方),f' = 焦距(像方),s = 物距,s' = 后焦距,Ø = 透镜直径,dm = 中心厚度,dr = 边缘厚度,h = 主顶点(h=dm-dr-h'),F、F' = 焦点,H、H' = 主点;公差:焦距f:±2%,像距s':±2%

注:Dmech:镜座外径,DCA:有效通光孔径,Doptical:光学尺寸,RR:固定环。
| 产品 | 平凹透镜;熔融石英;D=25.4;F=-700;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=6;F=-10;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=10;F=-16;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=12.7;F=-20;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=22.4;F=-50;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=22.4;F=-100;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=22.4;F=-40;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=22.4;F=-150;装框式 |
| 光学尺寸 | Ø 25.4 mm | Ø 6.0 mm | Ø 10.0 mm | Ø 12.7 mm | Ø 22.4 mm | Ø 22.4 mm | Ø 22.4 mm | Ø 22.4 mm |
| 焦距 (+/-) | -700.0 mm | -10.0 mm | -16.0 mm | -20.0 mm | -50.0 mm | -100.0 mm | -40.0 mm | -150.0 mm |
| 安装 | Microbench | Nanobench | Nanobench | Nanobench | Microbench | Microbench | Microbench | Microbench |
| 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 |
| 光学基材 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 |
| 光学中心厚度 | 5.8 mm | 1.0 mm | 1.0 mm | 4.0 mm | 1.5 mm | 1.5 mm | 1.5 mm | 1.5 mm |
| 长度 | 12.0 mm | 8.0 mm | 8.0 mm | 8.0 mm | 10.0 mm | 10.0 mm | 10.0 mm | 10.0 mm |
| 曲率半径1 | -349.74 mm | -5.012 mm | -8.175 mm | -10.0 mm | -25.483 mm | -50.481 mm | -20.097 mm | -75.531 mm |
| 曲率半径2 | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm |
| 厚度公差 | ± 0.2 mm | ± 0.1 mm | ± 0.15 mm | ± 0.2 mm | ± 0.2 mm | ± 0.2 mm | ± 0.2 mm | ± 0.2 mm |
| 透镜边缘厚度 | 6.0 mm | 2.0 mm | 2.7 mm | 6.0 mm | 4.1 mm | 2.8 mm | 4.9 mm | 2.3 mm |
| 光学元件定心精度(分、秒) | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' |
| 光学尺寸公差 | - 0.13 mm | - 0.09 mm | - 0.09 mm | - 0.11 mm | - 0.13 mm | - 0.13 mm | - 0.13 mm | - 0.13 mm |
| X nm下的焦距f' |
-687.72 mm -699.92 mm -720.17 mm -734.64 mm -760.16 mm -778.06 mm |
-9.85 mm -10.03 mm -10.32 mm -10.53 mm -10.89 mm -11.15 mm |
-16.08 mm -16.36 mm -16.83 mm -17.17 mm -17.77 mm -18.19 mm |
-19.66 mm -20.01 mm -20.59 mm -21.01 mm -21.74 mm -22.25 mm |
-50.11 mm -51.0 mm -52.47 mm -53.53 mm -55.39 mm -56.69 mm |
-99.27 mm -101.02 mm -103.95 mm -106.04 mm -109.72 mm -112.3 mm |
-39.52 mm -40.22 mm -41.38 mm -42.21 mm -43.68 mm -44.71 mm |
-148.52 mm -151.16 mm -155.53 mm -158.66 mm -164.2 mm -168.03 mm |
| X nm下的s值 | 9.36 mm | 15.28 mm | 19.66 mm | 47.62 mm | 94.33 mm | 37.55 mm | 141.14 mm | |
| 镜座外径 | 30.0 mm | 16.0 mm | 16.0 mm | 16.0 mm | 25.0 mm | 25.0 mm | 25.0 mm | 25.0 mm |
| 净孔径 | 24.0 mm | 5.0 mm | 9.0 mm | 11.5 mm | 21.4 mm | 21.4 mm | 21.4 mm | 21.4 mm |
| X nm下的s'值 | -10.52 mm | -16.74 mm | -22.32 mm | -51.1 mm | -100.26 mm | -40.51 mm | -149.51 mm | |
| 涂层规格 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 |
| 零件号 | G063868000 | G052313000 | G052314000 | G052315000 | G063353000 | G063354000 | G063352000 | G063355000 |
采用熔融石英制成,适用于UV和大功率应用,具有高损伤阈值、低色散和优异的UV透射率
严格控制的制造公差确保出色性能与高精度安装
无涂层,适用于宽波长范围应用,详细信息请参考熔融石英典型透射曲线
带镜座透镜能够轻松兼容LINOS Microbench与Nanobench系统
镜座采用黑色阳极氧化铝材质,并配有激光刻字
提供ZEMAX文件,方便进行系统设计与模拟


| 产品 | 平凹透镜;熔融石英;D=25.4;F=-700;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=6;F=-10;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=10;F=-16;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=12.7;F=-20;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=22.4;F=-50;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=22.4;F=-100;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=22.4;F=-40;装框式 | 平凹透镜;熔融石英;D=22.4;F=-150;装框式 |
| 光学尺寸 | Ø 25.4 mm | Ø 6.0 mm | Ø 10.0 mm | Ø 12.7 mm | Ø 22.4 mm | Ø 22.4 mm | Ø 22.4 mm | Ø 22.4 mm |
| 焦距 (+/-) | -700.0 mm | -10.0 mm | -16.0 mm | -20.0 mm | -50.0 mm | -100.0 mm | -40.0 mm | -150.0 mm |
| 安装 | Microbench | Nanobench | Nanobench | Nanobench | Microbench | Microbench | Microbench | Microbench |
| 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 | 带镜座 |
| 光学基材 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 | 熔融石英 |
| 光学中心厚度 | 5.8 mm | 1.0 mm | 1.0 mm | 4.0 mm | 1.5 mm | 1.5 mm | 1.5 mm | 1.5 mm |
| 长度 | 12.0 mm | 8.0 mm | 8.0 mm | 8.0 mm | 10.0 mm | 10.0 mm | 10.0 mm | 10.0 mm |
| 曲率半径1 | -349.74 mm | -5.012 mm | -8.175 mm | -10.0 mm | -25.483 mm | -50.481 mm | -20.097 mm | -75.531 mm |
| 曲率半径2 | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm | -999.0 mm |
| 厚度公差 | ± 0.2 mm | ± 0.1 mm | ± 0.15 mm | ± 0.2 mm | ± 0.2 mm | ± 0.2 mm | ± 0.2 mm | ± 0.2 mm |
| 透镜边缘厚度 | 6.0 mm | 2.0 mm | 2.7 mm | 6.0 mm | 4.1 mm | 2.8 mm | 4.9 mm | 2.3 mm |
| 光学元件定心精度(分、秒) | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' | 4.0 ' |
| 光学尺寸公差 | - 0.13 mm | - 0.09 mm | - 0.09 mm | - 0.11 mm | - 0.13 mm | - 0.13 mm | - 0.13 mm | - 0.13 mm |
| X nm下的焦距f' |
-687.72 mm -699.92 mm -720.17 mm -734.64 mm -760.16 mm -778.06 mm |
-9.85 mm -10.03 mm -10.32 mm -10.53 mm -10.89 mm -11.15 mm |
-16.08 mm -16.36 mm -16.83 mm -17.17 mm -17.77 mm -18.19 mm |
-19.66 mm -20.01 mm -20.59 mm -21.01 mm -21.74 mm -22.25 mm |
-50.11 mm -51.0 mm -52.47 mm -53.53 mm -55.39 mm -56.69 mm |
-99.27 mm -101.02 mm -103.95 mm -106.04 mm -109.72 mm -112.3 mm |
-39.52 mm -40.22 mm -41.38 mm -42.21 mm -43.68 mm -44.71 mm |
-148.52 mm -151.16 mm -155.53 mm -158.66 mm -164.2 mm -168.03 mm |
| X nm下的s值 | 9.36 mm | 15.28 mm | 19.66 mm | 47.62 mm | 94.33 mm | 37.55 mm | 141.14 mm | |
| 镜座外径 | 30.0 mm | 16.0 mm | 16.0 mm | 16.0 mm | 25.0 mm | 25.0 mm | 25.0 mm | 25.0 mm |
| 净孔径 | 24.0 mm | 5.0 mm | 9.0 mm | 11.5 mm | 21.4 mm | 21.4 mm | 21.4 mm | 21.4 mm |
| X nm下的s'值 | -10.52 mm | -16.74 mm | -22.32 mm | -51.1 mm | -100.26 mm | -40.51 mm | -149.51 mm | |
| 涂层规格 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 | 可选 |
| 零件号 | G063868000 | G052313000 | G052314000 | G052315000 | G063353000 | G063354000 | G063352000 | G063355000 |
采用熔融石英制成,适用于UV和大功率应用,具有高损伤阈值、低色散和优异的UV透射率
严格控制的制造公差确保出色性能与高精度安装
无涂层,适用于宽波长范围应用,详细信息请参考熔融石英典型透射曲线
带镜座透镜能够轻松兼容LINOS Microbench与Nanobench系统
镜座采用黑色阳极氧化铝材质,并配有激光刻字
提供ZEMAX文件,方便进行系统设计与模拟

