Spiegel mit Reflexionsgradient (GRM)

Spiegel mit Reflexionsgradient (GRM)

Excelitas-Laserspiegel mit Reflexionsgradienten bieten eine hohe Zerstörschwelle, spektrale Stabilität und eine präzise räumliche Strahlformung der Intensitäts- und Phaseneigenschaften von Laserstrahlen. Durch die Verwendung unserer eigenen präzisen Ionenstrahl-Sputter-Technologie (IBS) bieten unsere Laserspiegel mit speziellen Reflexionsgradienten höchste Umweltstabilität und mechanische Beständigkeit. So erfüllen sie die Anforderungen anspruchsvoller und hochbelastender Anwendungen wie Laseroptiken in instabilen Resonatorlasern.

Diese Spiegel mit Reflexionsgradienten sind in einer Vielzahl von Größen erhältlich, typischerweise von 0,25 Zoll (6 mm) bis 5 Zoll (127 mm), und können aus praktisch jedem Substratmaterial hergestellt werden, einschließlich Quarzglas, optischem Glas, ZnSe, ZnS und Silizium.

Diese Laserspiegel können ebenfalls kundenspezifisch mit beliebigen, einschließlich nicht-rotationssymmetrischer Muster ausgeführt werden. Ebenso sind anspruchsvolle Designs mit wiederholt ansteigenden und abfallenden Verlauf der Reflektivität auf dem Substrat möglich. Diese Spiegel umfassen:

  • Spiegel mit abgestufter Reflektivität oder GRM (Graded Reflectivity Mirrors)
  • Gauß-Spiegel
  • Spiegel mit variabler Reflektivität oder VRM (Variable Reflecting Mirrors)
  • Super-Gauß-Spiegel
  • Bessel-Spiegel
  • Parabel-Spiegel

 

Typische technische Daten
Substratmaterial Quarzglas, optisches Glas, ZnSe, ZnS und Si
Design-Wellenlängenbereich 266 nm bis 5 µm
Typische Reflektivitätsprofile Gaußsche nicht-rotationssymmetrische Muster
Zerstörschwelle 10 J/cm2, 20 nsec Puls bei 1064 nm
Oberflächenebenheit (bei 633 nm) λ/20
Oberflächengüte 10-5
Größenbereich 0,25" bis 5"
Freidurchmesser 90%
Temperaturbereich -196 °C bis 400 °C
Luftfeuchtigkeitsbereich 0 bis 100%

 

Typische technische Daten
Substratmaterial Quarzglas, optisches Glas, ZnSe, ZnS und Si
Design-Wellenlängenbereich 266 nm bis 5 µm
Typische Reflektivitätsprofile Gaußsche nicht-rotationssymmetrische Muster
Zerstörschwelle 10 J/cm2, 20 nsec Puls bei 1064 nm
Oberflächenebenheit (bei 633 nm) λ/20
Oberflächengüte 10-5
Größenbereich 0,25" bis 5"
Freidurchmesser 90%
Temperaturbereich -196 °C bis 400 °C
Luftfeuchtigkeitsbereich 0 bis 100%

 

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