Miroir diélectrique G340752000

Miroirs plans à revêtement diélectrique DLHS 532 nm

Les miroirs plans à revêtement diélectrique LINOS® DLHS 532 nm sont des composants optiques de précision conçus pour les applications laser à haute puissance et à haute énergie. Dotés d’un revêtement diélectrique, ces miroirs offrent une réflectivité exceptionnellement élevée avec des pertes par diffusion extrêmement faibles, assurant une performance fiable dans les applications critiques de guidage et de déviation de faisceau. Optimisés pour un angle d’incidence de 45°, ils assurent une déviation précise du faisceau de 90° et peuvent également servir de miroirs dichroïques ou passe-longue pour la séparation sélective des longueurs d’onde. Construits sur des substrats en silice fondue avec des surfaces avant et arrière hautement polies, ils maintiennent une excellente stabilité thermique et dimensionnelle dans des conditions exigeantes.

Les miroirs LINOS DLHS offrent plus de 99,7 % de réflexion à 532 nm, assurant une précision optique, une durabilité et une fiabilité pour les systèmes laser avancés, la recherche scientifique et les applications industrielles à haute puissance.

Produit Miroir laser DLHS532; silice fondue; D = 12,7 Miroir laser DLHS532; silice fondue; D = 22,4 x 31,5 elliptique Miroir laser DLHS532; silice fondue; D = 25 Miroir laser DLHS532; silice fondue; D = 50
Poids (kg) 0,003 0,008 0,008 0,043
Forme Circulaire Elliptique Circulaire Circulaire
Dimension optique Ø 12,7 mm Ø 22,4 à 31,5 mm Ø 25,0 mm Ø 50,0 mm
Épaisseur au centre de l’optique 5,0 mm 5,0 mm 5,0 mm 10,0 mm
Gamme de longueurs d'onde 532,0 nm 532,0 nm 532,0 nm 532,0 nm
Angle d’incidence (AOI) 45 deg 45 deg 45 deg 45 deg
Spécification de revêtement 1x R > 99,7 % @532 nm, T>80 % @1064 nm
1x non revêtu
1x R > 99,7 % @532 nm, T>80 % @1064 nm
1x non revêtu
1x R > 99,7 % @532 nm, T>80 % @1064 nm
1x non revêtu
1x R > 99,7 % @532 nm, T>80 % @1064 nm
1x non revêtu
Substrat Verre de silice Verre de silice Verre de silice Verre de silice
Parallélisme 5,0 5,0 5,0 5,0
  • Assure une performance fiable dans des conditions laser intenses, réduisant les risques de dommages ou d’arrêt, essentiel pour les applications laser à haute puissance et à haute énergie

  • Miroir avec revêtement diélectrique haute puissance offrant une réflectivité extrêmement élevée et de faibles pertes

  • Miroir de guidage de faisceau pour un angle d’incidence de 45°, déflexion de faisceau de 90°

  • Convient également comme miroir dichroïque/passe-long, offrant une fonctionnalité polyvalente permettant une intégration flexible dans les configurations multilon­geurs d’onde

  • La surface arrière polie réduit les réflexions parasites et la diffusion, améliorant la qualité du faisceau et la précision des mesures

  • Les très faibles pertes de diffusion préservent l’intensité et l’uniformité du faisceau pour les applications de précision

  • Le substrat en silice fondue assure une stabilité thermique élevée et une distorsion minimale, même sous forte puissance laser

  • Le polissage RMS ≤ 1 nm de la surface avant minimise la diffusion et la distorsion du front d’onde, maintenant une qualité de faisceau élevée

  • Réflectivité garantie > 99,7 % pour 532 nm à un AOI de 45° (polarisation moyenne)

  • Transmission > 80 % à λ = 1064 nm permettant le passage efficace des longueurs d’onde secondaires, prenant en charge les applications à double longueur d’onde

Produit Miroir laser DLHS532; silice fondue; D = 12,7 Miroir laser DLHS532; silice fondue; D = 22,4 x 31,5 elliptique Miroir laser DLHS532; silice fondue; D = 25 Miroir laser DLHS532; silice fondue; D = 50
Poids (kg) 0,003 0,008 0,008 0,043
Forme Circulaire Elliptique Circulaire Circulaire
Dimension optique Ø 12,7 mm Ø 22,4 à 31,5 mm Ø 25,0 mm Ø 50,0 mm
Épaisseur au centre de l’optique 5,0 mm 5,0 mm 5,0 mm 10,0 mm
Gamme de longueurs d'onde 532,0 nm 532,0 nm 532,0 nm 532,0 nm
Angle d’incidence (AOI) 45 deg 45 deg 45 deg 45 deg
Spécification de revêtement 1x R > 99,7 % @532 nm, T>80 % @1064 nm
1x non revêtu
1x R > 99,7 % @532 nm, T>80 % @1064 nm
1x non revêtu
1x R > 99,7 % @532 nm, T>80 % @1064 nm
1x non revêtu
1x R > 99,7 % @532 nm, T>80 % @1064 nm
1x non revêtu
Substrat Verre de silice Verre de silice Verre de silice Verre de silice
Parallélisme 5,0 5,0 5,0 5,0
  • Assure une performance fiable dans des conditions laser intenses, réduisant les risques de dommages ou d’arrêt, essentiel pour les applications laser à haute puissance et à haute énergie

  • Miroir avec revêtement diélectrique haute puissance offrant une réflectivité extrêmement élevée et de faibles pertes

  • Miroir de guidage de faisceau pour un angle d’incidence de 45°, déflexion de faisceau de 90°

  • Convient également comme miroir dichroïque/passe-long, offrant une fonctionnalité polyvalente permettant une intégration flexible dans les configurations multilon­geurs d’onde

  • La surface arrière polie réduit les réflexions parasites et la diffusion, améliorant la qualité du faisceau et la précision des mesures

  • Les très faibles pertes de diffusion préservent l’intensité et l’uniformité du faisceau pour les applications de précision

  • Le substrat en silice fondue assure une stabilité thermique élevée et une distorsion minimale, même sous forte puissance laser

  • Le polissage RMS ≤ 1 nm de la surface avant minimise la diffusion et la distorsion du front d’onde, maintenant une qualité de faisceau élevée

  • Réflectivité garantie > 99,7 % pour 532 nm à un AOI de 45° (polarisation moyenne)

  • Transmission > 80 % à λ = 1064 nm permettant le passage efficace des longueurs d’onde secondaires, prenant en charge les applications à double longueur d’onde

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