Optem Objektive mit großem Arbeitsabstand
Optem® Objektive mit großem Arbeitsabstand (LWD) sind die perfekte Lösung für Anwendungen in Machine Vision und der industriellen Inspektion, bei denen eine höhere Vergrößerung, eine höhere Auflösung und eine höhere chromatische Abbildungsleistung erforderlich sind, ohne den Arbeitsbereich zu beeinträchtigen.
Die auf unendlich korrigierten Optem M Plan APO-Objektive sind mit den Vergrößerungen 2X, 5X, 10X, 20X und 50X verfügbar und erlauben eine plane Abbildung sowohl beim Einsatz mit Zoomkonfigurationen als auch bei Aufbauten mit festen Vergrößerungen. Diese Objektive sind apochromatisch korrigiert und für Hellfeld-Beleuchtung ausgelegt.
Optem LWD HR Objektive sind mit Blick auf maximale NA ausgelegt für hochauflösende, kritische Inspektionsanwendungen und in den Vergrößerungen 5X, 10X und 20X verfügbar.
Optem M PLAN APO Objektive
|
Artikel-Nr. |
Beschreibung |
Vergrößerung |
Numerische Apertur |
Arbeitsabstand (mm) |
EFL (mm) |
Auflösung (um) |
DOF (um) |
Max. Sichtfeld (mm) |
Gewinde |
Gewicht (g) |
|
28-21-02-001 |
2X M PLAN APO |
2X |
0,055 |
34 |
100 |
6,1 |
181,8 |
⌀12,00 |
M26 x 36T |
233 |
|
28-21-05-001 |
5X M PLAN APO |
5X |
0,14 |
41 |
40 |
2,4 |
28,1 |
⌀4,80 |
M26 x 36T |
220 |
|
28-21-10-000 |
10X M PLAN APO |
10X |
0,30 |
34 |
20 |
1,1 |
6,1 |
⌀2,40 |
M26 x 36T |
240 |
|
28-21-11-001 |
20X M PLAN APO |
20X |
0,42 |
20 |
10 |
0,8 |
3,1 |
⌀1,20 |
M26 x 36T |
284 |
|
28-21-50-001 |
50X M PLAN APO |
50X |
0,55 |
13 |
4 |
0,61 |
1,8 |
⌀0,48 |
M26 x 36T |
299 |
Hochauflösende Optem Objektive
|
Artikel-Nr. |
Beschreibung |
Vergrößerung |
Numerische Apertur |
Arbeitsabstand (mm) |
EFL (mm) |
Auflösung (um) |
DOF (um) |
Max. Sichtfeld (mm)1 |
Gewinde |
Gewicht (g) |
|
28-20-44-000 |
5X HIGH-RES |
5X |
0,225 |
34 |
40 |
1,50 |
181,8 |
⌀0,74 |
M26 x 36T |
210 |
|
28-20-45-000 |
10X HIGH-RES |
10X |
0,45 |
19 |
20 |
0,74 |
28,1 |
⌀0,20 |
M26 x 36T |
190 |
|
28-20-46-000 |
20X HIGH-RES |
20X |
0,60 |
13 |
10 |
0,56 |
6,1 |
⌀0,30 |
M26 x 36T |
290 |
1Die hochauflösenden Optem Objektive sind nicht flachfeldkorrigiert, und die Feldkrümmung wirkt sich auf die Abbildungsleistung außerhalb der Achse aus.
- Vergrößerungen: 2X, 5X, 10X, 20X und 50X
- Großer Arbeitsabstand von 13 bis 41 mm
- Numerische Apertur von 0,055 bis 0,6
- Auf unendlich korrigierte Objektive
- 95 mm parfokale Distanz
- Apochromatisch korrigiert
- 400–700 nm Wellenlängenbereich
- Hellfeld-Beleuchtung
- 200 mm Referenz-Brennweite
Optem M PLAN APO Objektive
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Artikel-Nr. |
Beschreibung |
Vergrößerung |
Numerische Apertur |
Arbeitsabstand (mm) |
EFL (mm) |
Auflösung (um) |
DOF (um) |
Max. Sichtfeld (mm) |
Gewinde |
Gewicht (g) |
|
28-21-02-001 |
2X M PLAN APO |
2X |
0,055 |
34 |
100 |
6,1 |
181,8 |
⌀12,00 |
M26 x 36T |
233 |
|
28-21-05-001 |
5X M PLAN APO |
5X |
0,14 |
41 |
40 |
2,4 |
28,1 |
⌀4,80 |
M26 x 36T |
220 |
|
28-21-10-000 |
10X M PLAN APO |
10X |
0,30 |
34 |
20 |
1,1 |
6,1 |
⌀2,40 |
M26 x 36T |
240 |
|
28-21-11-001 |
20X M PLAN APO |
20X |
0,42 |
20 |
10 |
0,8 |
3,1 |
⌀1,20 |
M26 x 36T |
284 |
|
28-21-50-001 |
50X M PLAN APO |
50X |
0,55 |
13 |
4 |
0,61 |
1,8 |
⌀0,48 |
M26 x 36T |
299 |
Hochauflösende Optem Objektive
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Artikel-Nr. |
Beschreibung |
Vergrößerung |
Numerische Apertur |
Arbeitsabstand (mm) |
EFL (mm) |
Auflösung (um) |
DOF (um) |
Max. Sichtfeld (mm)1 |
Gewinde |
Gewicht (g) |
|
28-20-44-000 |
5X HIGH-RES |
5X |
0,225 |
34 |
40 |
1,50 |
181,8 |
⌀0,74 |
M26 x 36T |
210 |
|
28-20-45-000 |
10X HIGH-RES |
10X |
0,45 |
19 |
20 |
0,74 |
28,1 |
⌀0,20 |
M26 x 36T |
190 |
|
28-20-46-000 |
20X HIGH-RES |
20X |
0,60 |
13 |
10 |
0,56 |
6,1 |
⌀0,30 |
M26 x 36T |
290 |
1Die hochauflösenden Optem Objektive sind nicht flachfeldkorrigiert, und die Feldkrümmung wirkt sich auf die Abbildungsleistung außerhalb der Achse aus.
- Vergrößerungen: 2X, 5X, 10X, 20X und 50X
- Großer Arbeitsabstand von 13 bis 41 mm
- Numerische Apertur von 0,055 bis 0,6
- Auf unendlich korrigierte Objektive
- 95 mm parfokale Distanz
- Apochromatisch korrigiert
- 400–700 nm Wellenlängenbereich
- Hellfeld-Beleuchtung
- 200 mm Referenz-Brennweite