Dielektrisch beschichteter Planspiegel DLHS 755-840 nm, Ti:Sa
LINOS® dielektrisch beschichtete Planspiegel DLHS 755-840 nm, Ti:Sa sind optische Präzisionskomponenten für Hochleistungs- und Hochenergielaseranwendungen, die für Titan-Saphir-Laser optimiert sind. Ihre breitbandige dielektrische Beschichtung bietet ein hohes Reflexionsvermögen und minimale Streuverluste über den gesamten Hochreflexionsbereich. Diese Spiegel unterstützen Einfallswinkel von 0° bis 45° und sind in elliptischer, runder und rechteckiger Form erhältlich, um verschiedenen optischen Konfigurationen gerecht zu werden. Sie werden aus Quarzglas mit hochglanzpolierten Oberflächen gefertigt und bieten unter anspruchsvollen Bedingungen hervorragende thermische Stabilität und Oberflächenebenheit.
Mit einer garantierten Reflexion von über 99% im Wellenlängenbereich von 755 bis 840 nm vereinen DLHS-Spiegel optische Präzision, Langlebigkeit und langfristige Zuverlässigkeit und eignen sich ideal für fortschrittliche Lasersysteme, wissenschaftliche Forschung und industrielle Hochleistungslaseranwendungen.
| Produkt | Laserspiegel DLHS755-840; Quarzglas; D=22,4 × 31,5 elliptisch | Laserspiegel DLHS755-840; Quarzglas; D=25,4 | Laserspiegel DLHS755-840; Quarzglas; D=20 x 30 | Laserspiegel DLHS755-840; Quarzglas; D=50 |
| Gewicht (kg) | 0,008 | 0,008 | 0,003 | 0,043 |
| Form | Kreisförmig | Kreisförmig | Kreisförmig | Kreisförmig |
| Optikgröße | Ø 22,4–31,5 mm | Ø 25,4 mm | 20.0 - 30.0 mm | Ø 50,0 mm |
| Dicke des optischen Zentrums | 5,0 mm | 5,0 mm | 2,5 mm | 10,0 mm |
| Wellenlängenbereich | 755,0 – 840,0 nm | 755,0 – 840,0 nm | 755,0 – 840,0 nm | 755,0 – 840,0 nm |
| Einfallswinkel (AOI) | 0–45 Grad | 0–45 Grad | 0–45 Grad | 0–45 Grad |
| Substrat | Quarzglas | Quarzglas | Quarzglas | Quarzglas |
Ideal für Hochleistungs- und Hochenergieanwendungen, da er unter intensiven Laserbedingungen eine zuverlässige Leistung gewährleistet und das Risiko von Schäden oder Ausfallzeiten verringert
Breitband-Dielektrikum-Beschichtung für Ti:Saphir-Laser
Polierte Rückseite zur Minimierung von Streureflexionen und Streuung, wodurch die Strahlqualität und die Messgenauigkeit verbessert werden
Extrem geringe Streuverluste erhalten die Strahlintensität und Homogenität für Präzisionsanwendungen
Verwendung bei einem Einfallswinkel von 0–45° bietet Flexibilität beim optischen Design, ohne die Leistung zu beeinträchtigen
Elliptische, kreisförmige und rechteckige Flachspiegel bieten verschiedene Formoptionen, die sich für unterschiedliche Konfigurationen und Montageanforderungen eignen
Substrate aus Quarzglas gewährleisten eine hohe thermische Stabilität und minimale Verformung, selbst unter hoher Laserleistung
Garantierte Reflexion > 99% im Wellenlängenbereich von 755 nm bis 840 nm bei 0° ≤ AOI ≤ 45° (durchschnittliche Polarisation)
Zerstörschwelle H ∞ > 10 J/cm2 bei 1064 nm mit 11 ns-Laserpulsen (s-on-1) bei 10 Hz
| Produkt | Laserspiegel DLHS755-840; Quarzglas; D=22,4 × 31,5 elliptisch | Laserspiegel DLHS755-840; Quarzglas; D=25,4 | Laserspiegel DLHS755-840; Quarzglas; D=20 x 30 | Laserspiegel DLHS755-840; Quarzglas; D=50 |
| Gewicht (kg) | 0,008 | 0,008 | 0,003 | 0,043 |
| Form | Kreisförmig | Kreisförmig | Kreisförmig | Kreisförmig |
| Optikgröße | Ø 22,4–31,5 mm | Ø 25,4 mm | 20.0 - 30.0 mm | Ø 50,0 mm |
| Dicke des optischen Zentrums | 5,0 mm | 5,0 mm | 2,5 mm | 10,0 mm |
| Wellenlängenbereich | 755,0 – 840,0 nm | 755,0 – 840,0 nm | 755,0 – 840,0 nm | 755,0 – 840,0 nm |
| Einfallswinkel (AOI) | 0–45 Grad | 0–45 Grad | 0–45 Grad | 0–45 Grad |
| Substrat | Quarzglas | Quarzglas | Quarzglas | Quarzglas |
Ideal für Hochleistungs- und Hochenergieanwendungen, da er unter intensiven Laserbedingungen eine zuverlässige Leistung gewährleistet und das Risiko von Schäden oder Ausfallzeiten verringert
Breitband-Dielektrikum-Beschichtung für Ti:Saphir-Laser
Polierte Rückseite zur Minimierung von Streureflexionen und Streuung, wodurch die Strahlqualität und die Messgenauigkeit verbessert werden
Extrem geringe Streuverluste erhalten die Strahlintensität und Homogenität für Präzisionsanwendungen
Verwendung bei einem Einfallswinkel von 0–45° bietet Flexibilität beim optischen Design, ohne die Leistung zu beeinträchtigen
Elliptische, kreisförmige und rechteckige Flachspiegel bieten verschiedene Formoptionen, die sich für unterschiedliche Konfigurationen und Montageanforderungen eignen
Substrate aus Quarzglas gewährleisten eine hohe thermische Stabilität und minimale Verformung, selbst unter hoher Laserleistung
Garantierte Reflexion > 99% im Wellenlängenbereich von 755 nm bis 840 nm bei 0° ≤ AOI ≤ 45° (durchschnittliche Polarisation)
Zerstörschwelle H ∞ > 10 J/cm2 bei 1064 nm mit 11 ns-Laserpulsen (s-on-1) bei 10 Hz