Dielektrisch beschichtete Planspiegel DLHS UV 405 nm
LINOS® dielektrisch beschichtete Planspiegel DLHS UV 405 nm sind optische Präzisionskomponenten, die speziell für Hochleistungs- und Hochenergielaseranwendungen entwickelt wurden. Diese Spiegel sind mit einer dielektrischen UV-Hochleistungsbeschichtung versehen. Sie bieten eine außergewöhnlich hohe Reflektivität bei extrem geringen Streuverlusten. Dadurch ist eine zuverlässige Leistung bei anspruchsvollen Strahlsteuerungsaufgaben gewährleistet. Sie sind für Einfallswinkel von 0° bis 50° optimiert, liefern eine präzise Strahlumlenkung und können auch als dichroitische oder Langpassspiegel für wellenlängenselektive Anwendungen eingesetzt werden. Sie werden auf Quarzglassubstraten mit hochglanzpolierten Vorder- und Rückseiten hergestellt und bieten eine hervorragende thermische Stabilität sowie minimale Verzerrung.
Mit einer garantierten Reflexion von über 99,5% bei 405 nm vereinen DLHS-Spiegel optische Präzision, Beständigkeit und langfristige Zuverlässigkeit, was sie ideal für fortschrittliche Lasersysteme, wissenschaftliche Forschung und industrielle Hochleistungsanwendungen macht.
| Produkt | Laserspiegel DLHS405; Quarzglas; D=12,7 | Laserspiegel DLHS405; Quarzglas; D=22,4 × 31 elliptisch |
| Gewicht (kg) | 0,003 | 0,008 |
| Form | Elliptisch | Elliptisch |
| Optikgröße | Ø 12,7 mm | Ø 22,4–31,5 mm |
| Dicke des optischen Zentrums | 5,0 mm | 5,0 mm |
| Wellenlängenbereich | 405,0 nm | 405,0 nm |
| Einfallswinkel (AOI) | 0–45 Grad | 0–45 Grad |
| Substrat | Quarzglas | Quarzglas |
Diese dielektrisch beschichteten UV-Hochleistungsspiegel wurden für Hochenergie-Laseranwendungen entwickelt. Sie bieten auch unter hohen Laserintensitäten eine stabile Leistung und minimieren so das Risiko von optischen Schäden oder Systemausfällen.
Strahllenkungsspiegel für einen Einfallswinkel von 0–50°
Auch als dichroitischer Filter bzw. Langpassfilter geeignet, bietet vielseitige Funktionalität und ermöglicht eine flexible Integration in Mehrwellenlängen-Konfigurationen
Die polierte Rückseite minimiert Streureflexionen und Streuung und verbessert so die Strahlqualität und die Messgenauigkeit
Extrem geringe Streuverluste erhalten die Strahlintensität und Homogenität für Präzisionsanwendungen
Substrate aus Quarzglas gewährleisten eine hohe thermische Stabilität und minimale Verformung, selbst unter hoher Laserleistung
Frontfläche RMS ≤ 1 nm poliert minimiert Streuung und Wellenfrontverzerrung und bewahrt eine hohe Strahlqualität
Garantierte Reflexion > 99% bei 405 nm, sowohl bei einem Einfallswinkel (AOI) von 0° als auch von 45° (durchschnittliche Polarisation)
Transmission >80% für 480 nm < λ <1100 nm (bei 45° AOI) zur Unterstützung von Anwendungen mit zwei Wellenlängen kann durch eine zusätzliche Antireflexbeschichtung (AR) auf der Rückseite erreicht werden
Zerstörschwelle H∞ > 5 J/cm2 bei 308 nm mit 15-ns-Laserpulsen (s-on-1) bei 10 Hz
| Produkt | Laserspiegel DLHS405; Quarzglas; D=12,7 | Laserspiegel DLHS405; Quarzglas; D=22,4 × 31 elliptisch |
| Gewicht (kg) | 0,003 | 0,008 |
| Form | Elliptisch | Elliptisch |
| Optikgröße | Ø 12,7 mm | Ø 22,4–31,5 mm |
| Dicke des optischen Zentrums | 5,0 mm | 5,0 mm |
| Wellenlängenbereich | 405,0 nm | 405,0 nm |
| Einfallswinkel (AOI) | 0–45 Grad | 0–45 Grad |
| Substrat | Quarzglas | Quarzglas |
Diese dielektrisch beschichteten UV-Hochleistungsspiegel wurden für Hochenergie-Laseranwendungen entwickelt. Sie bieten auch unter hohen Laserintensitäten eine stabile Leistung und minimieren so das Risiko von optischen Schäden oder Systemausfällen.
Strahllenkungsspiegel für einen Einfallswinkel von 0–50°
Auch als dichroitischer Filter bzw. Langpassfilter geeignet, bietet vielseitige Funktionalität und ermöglicht eine flexible Integration in Mehrwellenlängen-Konfigurationen
Die polierte Rückseite minimiert Streureflexionen und Streuung und verbessert so die Strahlqualität und die Messgenauigkeit
Extrem geringe Streuverluste erhalten die Strahlintensität und Homogenität für Präzisionsanwendungen
Substrate aus Quarzglas gewährleisten eine hohe thermische Stabilität und minimale Verformung, selbst unter hoher Laserleistung
Frontfläche RMS ≤ 1 nm poliert minimiert Streuung und Wellenfrontverzerrung und bewahrt eine hohe Strahlqualität
Garantierte Reflexion > 99% bei 405 nm, sowohl bei einem Einfallswinkel (AOI) von 0° als auch von 45° (durchschnittliche Polarisation)
Transmission >80% für 480 nm < λ <1100 nm (bei 45° AOI) zur Unterstützung von Anwendungen mit zwei Wellenlängen kann durch eine zusätzliche Antireflexbeschichtung (AR) auf der Rückseite erreicht werden
Zerstörschwelle H∞ > 5 J/cm2 bei 308 nm mit 15-ns-Laserpulsen (s-on-1) bei 10 Hz