Excelitas C39737LH Silizium APD in LCC-Gehäuse
TEIL/ C30737LH-500-83N

C30737LH-500-83N – Si APD, 500 µm, LCC Gehäuse, 650 nm Filter

Die C30737LH-500-83N Silizium Avalanche-Photodiode (Si APD) wird in einem Keramikgehäuse (LCC) mit 650 nm Bandpassfilter geliefert und besitzt einen aktiven Durchmesser von 500 µm.

Hauptmerkmale:

  • Hohe Empfindlichkeit mit Filter bei 650 nm
  • Geringes Rauschen und extrem schnelle Anstiegszeit mit einer Grenzfrequenz von über 1,3 GHz
  • Aktiver Durchmesser von 230 μm
  • Optischer Bandpassfilter bei 650 nm
  • SMD Keramikgehäuse

Anwendungen:

  • LiDAR
  • Laserbasierte Entfernungsmessung
  • Laser Scanner
  • Anwendungen, die einen kostengünstigen, hochleistungsfähigen Detektor erfordern

  • Aktiver Durchmesser: 500 μm
  • Maximum der spektralen Empfindlichkeit: 650 nm
  • Durchbruchspannung Vbd: 120 V – 210 V (kann selektiert werden)
  • Temperaturkoeffizient von Vop für konstante Verstärkung: 0,5 V/°C
  • Verstärkung: 100 @ 650 nm
  • Empfindlichkeit: 35 A/W bei 650 nm
  • Dunkelstrom Id: 0,1 <1 nA
  • Rauschstrom: 0,1 pA/√Hz
  • Kapazität: 2 pF
  • Anstiegs-/Abfallzeit: 0,3 ns bei 50 Ω Abschlusswiderstand
  • Grenzfrequenz: 1,3 GHz
  • Lagertemperatur: -50°C bis +100°C
  • Betriebstemperatur: -40°C bis +85°C
  • Gehäuse: 3x3 mm, LCC Keramikgehäuse
  • Fenster: 650 nm Filter
  • Aktiver Durchmesser: 500 μm
  • Maximum der spektralen Empfindlichkeit: 650 nm
  • Durchbruchspannung Vbd: 120 V – 210 V (kann selektiert werden)
  • Temperaturkoeffizient von Vop für konstante Verstärkung: 0,5 V/°C
  • Verstärkung: 100 @ 650 nm
  • Empfindlichkeit: 35 A/W bei 650 nm
  • Dunkelstrom Id: 0,1 <1 nA
  • Rauschstrom: 0,1 pA/√Hz
  • Kapazität: 2 pF
  • Anstiegs-/Abfallzeit: 0,3 ns bei 50 Ω Abschlusswiderstand
  • Grenzfrequenz: 1,3 GHz
  • Lagertemperatur: -50°C bis +100°C
  • Betriebstemperatur: -40°C bis +85°C
  • Gehäuse: 3x3 mm, LCC Keramikgehäuse
  • Fenster: 650 nm Filter
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