Laserspiegel DLHS1064; Quarzglas; D=50 (G340765000)

Dielektrisch beschichtete Planspiegel DLHS NIR 1064 nm

Die dielektrisch beschichteten Planspiegel LINOS® DLHS NIR 1064 nm sind für Hochleistungs- und Hochenergielaseranwendungen konzipiert. Sie zeichnen sich durch außergewöhnliche Zuverlässigkeit und optische Abbildungsleistung aus. Ihre fortschrittliche dielektrische NIR-Beschichtung ist widerstandsfähig gegen laserbedingte Beschädigungen und gewährleistet einen Reflexionsgrad von über 99,8%. Diese Spiegel sind für einen Einfallswinkel von 45° konzipiert und gewährleisten eine präzise Strahlablenkung um 90°. Sie dienen zudem als Kurzpass- oder dichroitische Elemente in komplexen optischen Aufbauten.

Das Quarzglassubstrat zeichnet sich durch eine hervorragende thermische und mechanische Stabilität aus. Die hochglanzpolierte vordere Oberfläche mit einer RMS-Rauhigkeit von ≤ 1 nm minimiert Streuungen und gewährleistet eine gleichbleibende Strahlqualität. Diese Spiegel weisen sehr geringe Streuverluste auf und eignen sich daher ideal für die präzise Strahlsteuerung in hochleistungsfähigen Lasersystemen.

Produkt Laserspiegel DLHS1064; Quarzglas; D=12,7 Laserspiegel DLHS1064; Quarzglas; D=22,4 × 31,5 elliptisch Laserspiegel DLHS1064; Quarzglas; D=25 Laserspiegel DLHS1064; Quarzglas; D=50
Gewicht (kg) 0,003 0,008 0,008 0,043
Form Kreisförmig Kreisförmig Kreisförmig Kreisförmig
Optikgröße Ø 12,7 mm Ø 22,4–31,5 mm Ø 25,0 mm Ø 50,0 mm
Dicke des optischen Zentrums 5,0 mm 5,0 mm 5,0 mm 10,0 mm
Wellenlängenbereich 1064,0 nm 1064,0 nm 1064,0 nm 1064,0 nm
Einfallswinkel (AOI) 45 Grad 45 Grad 45 Grad 45 Grad
Beschichtungsspezifikation 1x R>99,8% bei 1064 nm, T>80% bei 532 nm
1x unbeschichtet
1x R>99,8% bei 1064 nm, T>80% bei 532 nm
1x unbeschichtet
1x R>99,8% bei 1064 nm, T>80% bei 532 nm
1x unbeschichtet
1x R>99,8% bei 1064 nm, T>80% bei 532 nm
1x unbeschichtet
Substrat Quarzglas Quarzglas Quarzglas Quarzglas
Parallelität 5,0 5,0 5,0 5,0
  • Diese dielektrisch beschichteten UV-Hochleistungsspiegel wurden für Hochenergie-Laseranwendungen entwickelt. Sie bieten auch unter hohen Laserintensitäten eine stabile Leistung und minimieren so das Risiko von optischen Schäden oder Systemausfällen.

  • Strahllenkungsspiegel für einen Einfallswinkel von 45°, Strahlablenkung von 90°

  • Auch als dichroitischer Filter bzw. Langpassfilter geeignet, bietet vielseitige Funktionalität und ermöglicht eine flexible Integration in Mehrwellenlängen-Konfigurationen

  • Die polierte Rückseite minimiert Streureflexionen und Streuung und verbessert so die Strahlqualität und die Messgenauigkeit

  • Extrem geringe Streuverluste erhalten die Strahlintensität und Homogenität für Präzisionsanwendungen

  • Substrate aus Quarzglas gewährleisten eine hohe thermische Stabilität und minimale Verformung, selbst unter hoher Laserleistung

  • Frontfläche RMS ≤ 1 nm poliert minimiert Streuung und Wellenfrontverzerrung und bewahrt eine hohe Strahlqualität

  • Garantierte Reflexion > 99,8% bei 1064 nm bei einem Einfallswinkel (AOI) von 45° (durchschnittliche Polarisation)

  • Eine Transmission von > 80% bei λ = 532 nm und 810 nm ermöglicht eine effiziente Transmission von sekundären Wellenlängen und unterstützt damit Anwendungen mit zwei Wellenlängen; eine Transmission von > 90% kann durch eine zusätzliche Antireflexbeschichtung (AR-Beschichtung) auf der Rückseite erreicht werden

  • Zerstörschwelle H > 30 J/cm2 bei 1064 nm mit 11-ns-Laserpulsen (s-on-1) bei 10 Hz

Produkt Laserspiegel DLHS1064; Quarzglas; D=12,7 Laserspiegel DLHS1064; Quarzglas; D=22,4 × 31,5 elliptisch Laserspiegel DLHS1064; Quarzglas; D=25 Laserspiegel DLHS1064; Quarzglas; D=50
Gewicht (kg) 0,003 0,008 0,008 0,043
Form Kreisförmig Kreisförmig Kreisförmig Kreisförmig
Optikgröße Ø 12,7 mm Ø 22,4–31,5 mm Ø 25,0 mm Ø 50,0 mm
Dicke des optischen Zentrums 5,0 mm 5,0 mm 5,0 mm 10,0 mm
Wellenlängenbereich 1064,0 nm 1064,0 nm 1064,0 nm 1064,0 nm
Einfallswinkel (AOI) 45 Grad 45 Grad 45 Grad 45 Grad
Beschichtungsspezifikation 1x R>99,8% bei 1064 nm, T>80% bei 532 nm
1x unbeschichtet
1x R>99,8% bei 1064 nm, T>80% bei 532 nm
1x unbeschichtet
1x R>99,8% bei 1064 nm, T>80% bei 532 nm
1x unbeschichtet
1x R>99,8% bei 1064 nm, T>80% bei 532 nm
1x unbeschichtet
Substrat Quarzglas Quarzglas Quarzglas Quarzglas
Parallelität 5,0 5,0 5,0 5,0
  • Diese dielektrisch beschichteten UV-Hochleistungsspiegel wurden für Hochenergie-Laseranwendungen entwickelt. Sie bieten auch unter hohen Laserintensitäten eine stabile Leistung und minimieren so das Risiko von optischen Schäden oder Systemausfällen.

  • Strahllenkungsspiegel für einen Einfallswinkel von 45°, Strahlablenkung von 90°

  • Auch als dichroitischer Filter bzw. Langpassfilter geeignet, bietet vielseitige Funktionalität und ermöglicht eine flexible Integration in Mehrwellenlängen-Konfigurationen

  • Die polierte Rückseite minimiert Streureflexionen und Streuung und verbessert so die Strahlqualität und die Messgenauigkeit

  • Extrem geringe Streuverluste erhalten die Strahlintensität und Homogenität für Präzisionsanwendungen

  • Substrate aus Quarzglas gewährleisten eine hohe thermische Stabilität und minimale Verformung, selbst unter hoher Laserleistung

  • Frontfläche RMS ≤ 1 nm poliert minimiert Streuung und Wellenfrontverzerrung und bewahrt eine hohe Strahlqualität

  • Garantierte Reflexion > 99,8% bei 1064 nm bei einem Einfallswinkel (AOI) von 45° (durchschnittliche Polarisation)

  • Eine Transmission von > 80% bei λ = 532 nm und 810 nm ermöglicht eine effiziente Transmission von sekundären Wellenlängen und unterstützt damit Anwendungen mit zwei Wellenlängen; eine Transmission von > 90% kann durch eine zusätzliche Antireflexbeschichtung (AR-Beschichtung) auf der Rückseite erreicht werden

  • Zerstörschwelle H > 30 J/cm2 bei 1064 nm mit 11-ns-Laserpulsen (s-on-1) bei 10 Hz

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