Hochleistungs-Laserspiegel
Excelitas bietet Laserspiegel für hohe Laserleistungen an mit einer unübertroffenen Kombination aus hoher Laserzerstörschwelle, extrem geringer Streuung, hervorragender Wellenfrontleistung und robuster mechanischer Beständigkeit. Durch die Verwendung unserer eigenen Superpolier-Fertigung und Präzisions-Ionenstrahl-Sputter-Technologie (IBS) sind unsere Hochenergie-Laserspiegel hochreflektierend und umweltstabil. So erfüllen sie die Anforderungen anspruchsvoller Anwendungen wie militärische Zielerfassung und Entfernungsmessung, industrielle Materialverarbeitungssysteme und intrakavitärer Lasereinsatz und Hochenergie-Forschungslaser.
Individuell angefertigt und beschichtet haben unsere Laserspiegel für hohe Laserleistungen typische Spezifikationen von 99,99% Reflektivität, λ/20 Ebenheit (bei 633 nm), Oberflächenqualität 10–5 und Streuverluste von 1 Teilen pro Million für eine definierte Laserwellenlänge. Sie sind in einer breiten Auswahl an Größen und Formen erhältlich, typischerweise 0,25" bis 10" im Durchmesser, und können aus praktisch jedem Substratmaterial hergestellt werden, einschließlich Quarzglas, optischem Glas, Zerodur und Pyrex. Diese Spiegel sind in erster Linie für die Verwendung mit gepulsten Festkörperlasern konzipiert, die bei 1064 nm, 532 nm und 355 nm arbeiten, sowie für die Verwendung mit multispektralen Lasersystemen.
| Typische Spezifikationen | |
|
Substratmaterial |
Quarzglas und andere |
|
Design-Wellenlängenbereich |
266 nm bis 1600 nm |
|
Reflektivität |
99,99 % |
|
Zerstörschwelle 1064 nm, 3 ns Puls 1064 nm, 20 ns Puls |
40 J/cm2 |
|
Pulsbreite |
Pikosekunde bis Mikrosekunde |
|
Oberflächenebenheit (bei 633 nm) |
λ/20 |
|
Oberflächengüte |
10–5 oder besser |
|
Größenbereich |
0,25" bis 10" |
|
Freidurchmesser |
90% |
|
Temperaturbereich |
-196 °C bis 400 °C |
|
Luftfeuchtigkeitsbereich |
0 bis 100% |
| Typische Spezifikationen | |
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Substratmaterial |
Quarzglas und andere |
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Design-Wellenlängenbereich |
266 nm bis 1600 nm |
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Reflektivität |
99,99 % |
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Zerstörschwelle 1064 nm, 3 ns Puls 1064 nm, 20 ns Puls |
40 J/cm2 |
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Pulsbreite |
Pikosekunde bis Mikrosekunde |
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Oberflächenebenheit (bei 633 nm) |
λ/20 |
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Oberflächengüte |
10–5 oder besser |
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Größenbereich |
0,25" bis 10" |
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Freidurchmesser |
90% |
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Temperaturbereich |
-196 °C bis 400 °C |
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Luftfeuchtigkeitsbereich |
0 bis 100% |