Dünnschicht-Polarisatorwürfel
LINOS®-Dünnschicht-Polarisatorwürfel wurden entwickelt, um außergewöhnlich reine polarisierte Strahlen für anspruchsvolle Optikanwendungen zu liefern. Hochentwickelte dielektrische Strahlteilerbeschichtungen bieten eine extrem breite spektrale Bandbreite bei gleichzeitig hervorragender Transmission und Extinktionsverhältnissen von über 10.000:1. Das Design gewährleistet, dass keine Winkel- oder seitliche Strahlablenkung auftritt und die Wellenfrontverzerrung minimal ist, wodurch sich diese Würfel ideal für die Präzisionsbildgebung, Spektroskopie und Lasersysteme eignen. Breitband-ARB2-Beschichtungen verbessern die Leistung über mehrere Wellenlängen hinweg und gewährleisten dabei eine durchschnittliche Transmission von über 90%.
Die Dünnschicht-Polarisationswürfel von Excelitas bieten durch die Kombination von hoher Polarisationsreinheit, breitem Spektralbereich und exzellenter optischer Stabilität eine zuverlässige Lösung für Anwendungen, die eine präzise, stabile und leistungsstarke Polarisationssteuerung erfordern. Ihre hervorragende Strahlqualität gewährleistet eine optimale Leistung in anspruchsvollen optischen Systemen.
h Höhe, L1 Breite, L2 Länge
| Produkt | Dünnschichtpolarisator für 390–480 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 7 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 10 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 20 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 25 | Dünnschichtpolarisator für 450–700 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 450–700 nm; L = 10 | Dünnschichtpolarisator für 450–700 nm; L = 12,5 | Dünnschichtpolarisator für 450–700 nm; L = 20 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 7 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 10 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 12,5 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 20 | Dünnschichtpolarisator für 1100–1700 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 1100–1700 nm; L = 10 | Dünnschichtpolarisator für 1100–1700 nm; L = 12,5 |
| Form | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig |
| Optikgröße | 5,0 mm | 5,0 mm | 7,0 mm | 10,0 mm | 20,0 mm | 25,0 mm | 5,0 mm | 10,0 mm | 12,5 mm | 20,0 mm | 5,0 mm | 7,0 mm | 10,0 mm | 12,5 mm | 20,0 mm | 5,0 mm | 10,0 mm | 12,5 mm |
| Substrat | SF2 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 |
| Wellenlängenbereich | 390,0 – 480,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 700,0 nm | 450,0 – 700,0 nm | 450,0 – 700,0 nm | 450,0 – 700,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 1100,0 – 1700,0 nm | 1100,0 – 1700,0 nm | 1100,0 – 1700,0 nm |
| Toleranz h | -0,075 mm | -0,075 mm | -0,09 mm | -0,09 mm | -0,13 mm | -0,13 mm | -0,075 mm | -0,09 mm | -0,11 mm | -0,13 mm | -0,075 mm | -0,09 mm | -0,09 mm | -0,11 mm | -0,13 mm | -0,075 mm | -0,09 mm | -0,11 mm |
| Toleranz L1 = L2 | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,4 mm | ± 0,4 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,4 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,4 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm |
| Minimale Extinction Ratio Tp/Ts bei Auslegungswellenlänge | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 |
Spezialbeschichtungen für Strahlteiler zur hocheffizienten Erzeugung stark polarisierter transmittierter Strahlen
Ultrabreite Spektralbandbreite kombiniert mit sehr hoher Extinction Ratio und hervorragender Transmission für maximale Vielseitigkeit und Leistung
Eine extrem hohe Extinction Ratio (>10.000:1 für ΦTp:ΦTs bei ±2°) gewährleistet eine hervorragende Polarisationsreinheit für optische Präzisionsanwendungen
Die hervorragende Strahlqualität ohne Winkel- oder seitliche Abweichung des transmittierten Strahls ermöglicht eine stabile optische Ausrichtung
Eine geringe Wellenfrontverzerrung (<λ/4 bei 633 nm) gewährleistet die Strahlintegrität für hochpräzise Messungen
Eine breitbandige Antireflexbeschichtung (ARB2) minimiert Reflexionsverluste und verbessert die optische Gesamteffizienz
Eine hohe durchschnittliche Transmission (Tp >90%) gewährleistet einen hohen Signaldurchsatz und eine effiziente Lichtausbeute
Hohe Laserschadensbeständigkeit: >2 kW/cm² (CW bei 488/514 nm), >200 mJ/cm² (10-ns-Impulse bei 1064 nm) und >28 mJ/cm² (280-fs-Impulse bei 850 nm, 20 Hz) für anspruchsvolle Laserumgebungen
Kompatibel mit Microbench und modularen optischen Befestigungssystemen (z. B. G061641000-Klemmhalter für 10-mm-Prismen und G065065000-Prismentisch 25 für 12.5–20-mm-Kantenlängen) für eine flexible Integration
Geeignet für den Einsatz in verstellbaren Halterungssystemen von LINOS Cube C- und Microbench-Feinjustierungseinheiten, um präzise Ausrichtung und Systemkompatibilität zu gewährleisten










| Produkt | Dünnschichtpolarisator für 390–480 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 7 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 10 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 20 | Dünnschichtpolarisator für 450–1050 nm; L = 25 | Dünnschichtpolarisator für 450–700 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 450–700 nm; L = 10 | Dünnschichtpolarisator für 450–700 nm; L = 12,5 | Dünnschichtpolarisator für 450–700 nm; L = 20 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 7 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 10 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 12,5 | Dünnschichtpolarisator für 750–1100 nm; L = 20 | Dünnschichtpolarisator für 1100–1700 nm; L = 5 | Dünnschichtpolarisator für 1100–1700 nm; L = 10 | Dünnschichtpolarisator für 1100–1700 nm; L = 12,5 |
| Form | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig | Rechteckig |
| Optikgröße | 5,0 mm | 5,0 mm | 7,0 mm | 10,0 mm | 20,0 mm | 25,0 mm | 5,0 mm | 10,0 mm | 12,5 mm | 20,0 mm | 5,0 mm | 7,0 mm | 10,0 mm | 12,5 mm | 20,0 mm | 5,0 mm | 10,0 mm | 12,5 mm |
| Substrat | SF2 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 | S-NBH51 |
| Wellenlängenbereich | 390,0 – 480,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 1050,0 nm | 450,0 – 700,0 nm | 450,0 – 700,0 nm | 450,0 – 700,0 nm | 450,0 – 700,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 750,0 – 1100,0 nm | 1100,0 – 1700,0 nm | 1100,0 – 1700,0 nm | 1100,0 – 1700,0 nm |
| Toleranz h | -0,075 mm | -0,075 mm | -0,09 mm | -0,09 mm | -0,13 mm | -0,13 mm | -0,075 mm | -0,09 mm | -0,11 mm | -0,13 mm | -0,075 mm | -0,09 mm | -0,09 mm | -0,11 mm | -0,13 mm | -0,075 mm | -0,09 mm | -0,11 mm |
| Toleranz L1 = L2 | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,4 mm | ± 0,4 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,4 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,4 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm | ± 0,2 mm |
| Minimale Extinction Ratio Tp/Ts bei Auslegungswellenlänge | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 | 10000,0–1,0 |
Spezialbeschichtungen für Strahlteiler zur hocheffizienten Erzeugung stark polarisierter transmittierter Strahlen
Ultrabreite Spektralbandbreite kombiniert mit sehr hoher Extinction Ratio und hervorragender Transmission für maximale Vielseitigkeit und Leistung
Eine extrem hohe Extinction Ratio (>10.000:1 für ΦTp:ΦTs bei ±2°) gewährleistet eine hervorragende Polarisationsreinheit für optische Präzisionsanwendungen
Die hervorragende Strahlqualität ohne Winkel- oder seitliche Abweichung des transmittierten Strahls ermöglicht eine stabile optische Ausrichtung
Eine geringe Wellenfrontverzerrung (<λ/4 bei 633 nm) gewährleistet die Strahlintegrität für hochpräzise Messungen
Eine breitbandige Antireflexbeschichtung (ARB2) minimiert Reflexionsverluste und verbessert die optische Gesamteffizienz
Eine hohe durchschnittliche Transmission (Tp >90%) gewährleistet einen hohen Signaldurchsatz und eine effiziente Lichtausbeute
Hohe Laserschadensbeständigkeit: >2 kW/cm² (CW bei 488/514 nm), >200 mJ/cm² (10-ns-Impulse bei 1064 nm) und >28 mJ/cm² (280-fs-Impulse bei 850 nm, 20 Hz) für anspruchsvolle Laserumgebungen
Kompatibel mit Microbench und modularen optischen Befestigungssystemen (z. B. G061641000-Klemmhalter für 10-mm-Prismen und G065065000-Prismentisch 25 für 12.5–20-mm-Kantenlängen) für eine flexible Integration
Geeignet für den Einsatz in verstellbaren Halterungssystemen von LINOS Cube C- und Microbench-Feinjustierungseinheiten, um präzise Ausrichtung und Systemkompatibilität zu gewährleisten









