Mag.x 125 Weitwinkel-Mikroskopsystem
Das auf unserem für optische Exzellenz bekannten Qioptiq®-Erbe basierende System mag.x 125 repräsentiert eine neue Baureihe optischer Systeme, die eine mikroskopische Auflösung bei großen Sichtfeldern ermöglichen und moderne, hochauflösende Sensoren mit bis zu 57 mm Durchmesser unterstützen. Das variable System ist vollständig modular aufgebaut und ist ideal einsetzbar im sub-Mikrometerbereich bei Inspektions- und Messanwendungen. Der modulare Ansatz ermöglicht die Anpassung des Systems an viele Anwendungen, vom einfachen optischen System ohne Beleuchtung bis hin zu einem voll ausgestatteten System mit koaxialer Beleuchtung und Closed-Loop-Autofokus.
Hochauflösende Weitwinkelbildgebung
Mit integrierbaren Autofokus-Modulen erfüllt das Mag.x System 125 die anspruchsvollsten Inspektionsaufgaben in automatisierten industriellen Bereichen. Verschiedene Inspektionsanwendungen profitieren von der „Closed-Loop“-Autofokuslösung, die Zykluszeiten und infolgedessen den Durchsatz steigern können.
Hochauflösende Inspektion wird in vielen Anwendungen eingesetzt. Jede Anwendung hat ihre eigenen Anforderungen und Einschränkungen. Um all diese verschiedenen Anforderungen zu erfüllen, ist das Mag.x System 125 so modular wie nur möglich aufgebaut. Die Integration kundenspezifischer Elemente ist einfach und ermöglicht eine nahtlose Integration des Systems in die vorhandene Ausrüstung. Das Mag.x System 125 kann mit unserer breiten Auswahl an Objektiven, Tubuslinsen, Beleuchtungsröhren, Autofokusmodulen, Montageplatten und anderem Zubehör kombiniert werden, um die individuellen Anforderungen Ihrer Anwendung zu erfüllen. Weitere Informationen finden Sie in unserem Qioptiq-Shop.
Unsere Qualitätskriterien:
- Präzise Technik mit innovativem optischem Design
- Exakte Telezentrie auf Objekt- und Bildseite
- Beugungsbegrenzte optische Abbildungsleistung über den gesamten Bildkreis
- Präziser und dynamischer Autofokus
Ideale Anwendungen:
Inspektion und Bearbeitung von Halbleitern, Flachbildschirmen (TFT und OLED) und Leiterplatten (PCB); Mikromesstechnik und Metrologie, MEMS und Nanotechnologie, Fluoreszenzmikroskopie, digitale Pathologie und vieles mehr.
Objectiv Plan-Apochromat |
Tubuslinsensystem |
|||||||||||||||
1x |
1.73x |
2.25x |
||||||||||||||
f'tub = 250 mm |
f'tub = 432,5 mm |
f'tub = 563 mm |
||||||||||||||
2y' = 25 mm |
2y' = 43.3 mm |
2y' = 57 mm |
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|
WD |
f'obj |
δ |
R0 |
M |
2y mm |
NA' |
R'0 lp/mm |
M |
2y mm |
NA' |
R'0 lp/mm |
M |
2y mm |
NA' |
R'0 lp/mm |
Magn./NA |
mm |
mm |
µm |
lp/mm |
||||||||||||
2x/0.08 |
24,8 |
125 |
± 42,7 |
293 |
2,0 |
12,5 |
0,04 |
147 |
3,5 |
12,5 |
0,023 |
85 |
4,5 |
12,5 |
0,018 |
65 |
5x/0.2 |
13,0 |
50 |
± 6,8 |
733 |
5,0 |
5,0 |
0,04 |
147 |
8,7 |
5,0 |
0,023 |
85 |
11,25 |
5,0 |
0,018 |
65 |
NA Numerische Apertur im Objektraum = n · sin (σ)
WD Arbeitsabstand
f'obj Brennweite des Objektivs
f'Tub Brennweite des Tubusobjektivs
δobj Schärfentiefe bei 546 nm δobj = ±n · λ/(2 · NA2)
R'0 Grenzfrequenz im Bildraum bei 546 nm
R0 Grenzfrequenz im Objektraum bei 546 nm; R0 = (2 · NA) / λ
2y' Bildfeldgröße (maximale Detektordiagonale)
2y Objektfeldgröße
M Vergrößerung des Gesamtsystems; M = Mobj · Mtub
In der mag.x-Broschüre unter der Registerkarte Dokumente finden Sie weitere Details und Hinweise zu dieser Tabelle.
Objectiv Plan-Apochromat |
Tubuslinsensystem |
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1x |
1.73x |
2.25x |
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f'tub = 250 mm |
f'tub = 432,5 mm |
f'tub = 563 mm |
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2y' = 25 mm |
2y' = 43.3 mm |
2y' = 57 mm |
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|
WD |
f'obj |
δ |
R0 |
M |
2y mm |
NA' |
R'0 lp/mm |
M |
2y mm |
NA' |
R'0 lp/mm |
M |
2y mm |
NA' |
R'0 lp/mm |
Magn./NA |
mm |
mm |
µm |
lp/mm |
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2x/0.08 |
24,8 |
125 |
± 42,7 |
293 |
2,0 |
12,5 |
0,04 |
147 |
3,5 |
12,5 |
0,023 |
85 |
4,5 |
12,5 |
0,018 |
65 |
5x/0.2 |
13,0 |
50 |
± 6,8 |
733 |
5,0 |
5,0 |
0,04 |
147 |
8,7 |
5,0 |
0,023 |
85 |
11,25 |
5,0 |
0,018 |
65 |