Mag.x 125 Weitwinkel-Mikroskopsystem

Mag.x 125 Weitwinkel-Mikroskopsystem

Das Optem® mag.x System 125 repräsentiert eine neue Klasse optischer Systeme, die mikroskopähnliche Auflösungen mit großen Sichtfeldern ermöglichen und moderne hochauflösende Sensoren mit bis zu 57 mm Durchmesser unterstützen. Das extrem variable System ist vollständig modular aufgebaut und ist ideal einsetzbar im sub-Mikrometerbereich bei Inspektions- und Messanwendungen. The modular approach enables adaptation of the system to many applications ranging from a straightforward optical system without illumination to a full featured system including coaxial illumination and closed loop autofocus.

Hochauflösende Weitwinkelbildgebung

With integrable autofocus modules, the mag.x system 125 meets the most demanding inspection tasks in automated industrial environments. Various inspection applications benefit from the "closed-loop" autofocus solution by reducing cycle times and increasing overall throughput.

OI_mag.x 125 Lenses

Hochauflösende Inspektion wird in vielen Anwendungen eingesetzt. Jede Anwendung hat ihre eigenen Anforderungen und Einschränkungen. Um all diese verschiedenen Anforderungen zu erfüllen, ist das Mag.x System 125 so modular wie nur möglich aufgebaut. Die Integration kundenspezifischer Elemente ist einfach und ermöglicht eine nahtlose Integration des Systems in die vorhandene Ausrüstung. Das Mag.x System 125 kann mit unserer breiten Auswahl an Objektiven, Tubuslinsen, Beleuchtungsröhren, Autofokusmodulen, Montageplatten und anderem Zubehör kombiniert werden, um die individuellen Anforderungen Ihrer Anwendung zu erfüllen.

Our Quality Criteria:

  • Präzise Technik mit innovativem optischem Design​​​​​​​
  • Exakte Telezentrie auf Objekt- und Bildseite​​​​​​​
  • Beugungsbegrenzte optische Abbildungsleistung über den gesamten Bildkreis
  • Präziser und dynamischer Autofokus

Ideale Anwendungen:

Inspection and processing of semiconductors, flat-panel displays (TFT and OLED) and printed circuit boards (PCBs), micro measurement and metrology, MEMS and nanotechnology, fluorescence microscopy, digital pathology, and more.

Objectiv Plan-ApochromatTubuslinsensystem
1x2.25x
f'tub = 250 mmf'tub = 563 mm
2y' = 25 mm2y' = 57 mm
WDf'objδR0M2y
mm
NA'R'0
lp/mm
M2y
mm
NA'R'0
lp/mm
Magn./NAmmmmµmlp/mm
2x/0.0824,8125± 42,72932,012,50,041474,512,50,01865
5x/0.213,050± 6,87335,05,00,0414711,255,00,01865

NA    Numerical aperture in the object space = n · sin (σ) 
WD   Working distance
f'objFocal length of the objective
f'tubFocal length of the tube lens
δobjDepth of field at 546 nm δobj= ±n · λ/(2 · NA2)   
R'0Cut-off frequency in image space at 546 nm
R0Cut-off frequency in object space at 546 nm; R0 = (2 · NA) / λ
2y'    Image field size (maximum detector diagonal)
2y     Object field size
M      Magnification of the overall system; M = Mobj · Mtub

Objectiv Plan-ApochromatTubuslinsensystem
1x2.25x
f'tub = 250 mmf'tub = 563 mm
2y' = 25 mm2y' = 57 mm
WDf'objδR0M2y
mm
NA'R'0
lp/mm
M2y
mm
NA'R'0
lp/mm
Magn./NAmmmmµmlp/mm
2x/0.0824,8125± 42,72932,012,50,041474,512,50,01865
5x/0.213,050± 6,87335,05,00,0414711,255,00,01865

NA    Numerical aperture in the object space = n · sin (σ) 
WD   Working distance
f'objFocal length of the objective
f'tubFocal length of the tube lens
δobjDepth of field at 546 nm δobj= ±n · λ/(2 · NA2)   
R'0Cut-off frequency in image space at 546 nm
R0Cut-off frequency in object space at 546 nm; R0 = (2 · NA) / λ
2y'    Image field size (maximum detector diagonal)
2y     Object field size
M      Magnification of the overall system; M = Mobj · Mtub

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